“和风屏山”中国画学术论坛
时间：
2018/12/28 19:00:00 至 2018/12/28 21:00:00
地点：1楼国际学术报告厅
费用：
免费
类型：
西湖美术讲坛
人数：
350
“和风屏山”中国画学术论坛
主 持：高士明
时 间：2018年12月28日19:00
地 点：浙江美术馆1F学术报告厅
主题演讲：
姜宝林
既要笔墨 又要现代
张 捷
关于画屏
王 欣
折屏戏台：《夜宴图》的建筑学物化
方 骏
从北纬三十度说起
连 冕
新墙与幻术：东亚屏风复合式创作的学术史考察及其评述
王冬亮
未被图像开显的汉魏山水形象层累略说
“和风屏山——第五届杭州·中国画双年展”将在 2018 年 12 月 28 日于浙江美术馆开展。本次双年展分为“横山”、“叠境”、“踏歌”、“暗香”四大篇章。第五届杭州·中国画双年展确定了“正本清源、承古开今”的学术宗旨与“和风屏山”的学术主题，以“屏风”为创作体裁，试图展示“屏风”的特殊文化价值和传统欣赏习惯，挖掘“屏风”的象征形式和场所精神，梳理中国画传统样式对当代中国画的拓新发展，研究民族性绘画与中国文化建设之间的紧密联系，重现中国美术发展史的经典脉络，推进当代中国画的多元发展。
根据第五届杭州·中国画双年展主策展人高士明与联合策展人陈平、张捷提名，并经第五届杭州·中国画双年展艺委会第二次会议各位艺术委员的进一步推荐和决定，共有 38 位在当代中国画画坛具有代表性的艺术家获得第五届双年展的邀请。